日本国内でこの危険な化学物質の需要が爆発的に増えている背景には、国策として進められる半導体製造基盤の強化がある。シリコンウェハの洗浄工程において、フッ酸は代替不可能な存在だ。2026年現在、全国各地で新工場の建設や増床が進むが、それに伴い熟練度の低い作業員がハンドリング業務に携わる機会も増えている。
業界関係者は匿名を条件にこう語る。「工期と生産目標のプレッシャーが凄まじく、安全教育が形骸化している現場があるのは事実だ。防護具の着用方法すら怪しい派遣社員が、フッ酸の配管近くで作業していることもある」。この歪みが、いつ大惨事を引き起こしてもおかしくない状況を作り出している。
